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pn结形成及机理;
PN结的形成
p型半导体和n型半导体接触,因浓度差,致使多子扩散运动,由杂质离子形成空间电荷区,空间电荷区形成形成内电场,内电场促使少子漂移内电场阻止多子扩散。最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。
工作原理:
在太阳能电池中产生的电流叫做“光生电流”,它的产生包括了两个主要的过程。
第一个过程是吸收入射光子并产生电子空穴对。 e-h对只能由能量大于太阳能电池Eg的光子产生。 然而,电子和空穴是处在亚稳定状态的,在复合之前其平均生存时间等于少数载流子的寿命。 如果载流子被复合了,光生电子空穴对将消失,也没有电流和电能产生。
第二个过程是,pn结通过对这些光生载流子的收集,即把电子和空穴分散到不同的区域,阻止了它们的复合。 pn结是通过其内建电场的作用把载流子分开的。 如果光生少子到达pn结,将会被内建电场移到另一个区,然后它便成了多数载流子。 如果用一根导线把发射区跟基区连接在一起(使电池短路),光生载流子将流到外部电路。
XRD,布拉格方程;
X-射线的性质
① 肉眼不能观察到,但可使照相底片感光、荧光板发光和使气体电离;
② 能透过可见光不能透过的物体;
③ 这种射线沿直线传播,在电场与磁场中不偏转,在通过物体时不发生反射、折射现象,通过普通光栅亦不引起衍射;
④ 这种射线对生物有很厉害的生理作用。
X射线的波长范围为0.01~100?
X射线的产生:通过高速运动的电子流轰击金属靶来获得的
特征X线:把原子的内层电子打到外层或者甚至把它打到原子外面,而使原子电离,从而在原子的内电子层中留有缺席的位置,外层高能级的电子回跃填补空位,并以X射线的形式辐射多余的能量。
一束波长为λ的X射线透过晶体时,某一特定方向上的散射X射线发生叠加,这种现象称为X射线衍射
布拉格方程: 2dsinθ= nλ
外延方法,3-5族太阳能电池;
III-V族化合物的薄膜生长技术,主要是利用外延生长法,又可细分为液相外延、有机金属化学气相淀积法、分子束外延等
外延是指在一晶体上有次序的生长另一层晶体
如果衬底与所长的外延层材料相同的话,就叫做同质外延,如果衬底与所长的外延层材料不相同的话,就叫做异质外延
使用不同的衬底材料会影响所生长的Ⅲ-V族化合物薄膜的电学及光学性能。在生长这些薄膜时要注意的是晶格常数的匹配性
液相外延:由液态物质来长出外延层
MOCVD为有机金属化学气相沉积外延技术,它是在低压下利用有机金属在反应器内进行化学反应,并使反应物沉积在被加热到600~800℃的晶片上,而得到外延片的生产技术。
分子束外延技术(MBE):在超高真空状态下(~10-10torr),让热原子或热分子束自原料中分离出来,然后在基板表面进行反应,而沉积产生外延薄膜的一种技术。
III-V族材料的优点:
(1)太阳电池的理论转换效率与半导体的能隙大小有关,一般最佳的太阳电池测量的能隙为1.4~1.5eV之间,所以能隙为1.43eV的GaAs及1.35eV的InP会比1.1eV的硅更适合用在高效率的太阳电池上
(2)利用各种Ⅲ-V族化合物所形成的多结太阳电池可增加被吸收波长的范围,更可达到高效率化的目的。
(3)硅是间接带隙材料,对于光的吸收系数较小,一般需要采用200um以上的厚度,才能吸收到足够的太阳光,而Ⅲ-V族化合物多为直接带隙材料,对于光的吸收较强,仅需要数微米的厚度,就能吸收到足够的太阳光。
(4)GaAs太阳电池的温度系数较小,能在较高的温度下正常工作。
(5)可制成效率更高的多结叠层太阳电池
(6)GaAs基系太阳电池具有较强的抗辐照性能
分类:
(1)GaAs基单结太阳能电池
GaAs/GaAs同质结太阳电池
GaAs/Ge异质结太阳电池
(2)GaAs基多结叠层太阳能电池
AlGaAs/GaAs叠层电池
GaInP/GaAs叠层电池
GaInP/GaAs/Ge三结叠层电池
(3)III-V族聚光太阳能电池
PECVD,基本成膜;
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition(PECVD)即“等离子增强化学气相沉积”
它是借助等离子体使含有薄膜组成原子的气态物质发生化学反应, 而在基片上沉积薄膜的一种方法。
PECVD系统有很多种类型,其主要组成部件有:真空室组件、直流电源、基片水冷加热台、窗口及法兰接口部件、工作气路、抽气机组(机械泵和分子泵)、阀门及管道、真空测量及电控系统。
PECVD基本原理:
等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)是在沉积室内建立高压电场,反应气体在一定气压和高压电场的作用下,产生辉光放电,反应气体被激发成非常活泼的分子,原子,离子和原子团构成的等离子体。正离子和电
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