近代物理实验(二).docxVIP

实验九 用椭偏仪测薄膜厚度与折射率 随着半导体和大规模集成电路工艺的飞速发展，薄膜技术的应用也越加广泛。因此，精确地测量薄膜厚度与其光学常数就是一种重要的物理测量技术。 目前测量薄膜厚度的方法很多。如称重法、比色法、干涉法、椭圆偏振法等。其中，椭圆偏振法成为主要的测试手段，广泛地应用在光学、材料、生物、医学等各个领域。而测量薄膜材料的厚度、折射率和消光系数是椭圆偏振法最基本，也是非常重要的应用之一。 实验原理 由于薄膜的光学参量强烈地依赖于制备方法的工艺条件，并表现出明显的离散性， 因此，如何准确、快速测量给定样品的光学参量一直是薄膜研究中一个重要的问题。椭圆偏振法由于无须测定光强的绝对值，因而具有较高的精度和灵敏度，而且测试方便，对样品无损伤，所以在光学薄膜和薄膜材料研究中受到极大的关注。 椭圆偏振法是利用椭圆偏振光入射到样品表面，观察反射光的偏振状态（振幅和位相）的变化，进而得出样品表面膜的厚度及折射率。 氦氖激光器发出激光束波长为 632.8nm 的单色自然光，经平行光管变成单色平行光束，再经起偏器 P 变成线偏振光，其振动方向由起偏器方位角决定，转动起偏器，可以改变 线偏振光的振动方向， 线偏振光经 1/4 波片后， 由于双折射现象， 寻常光和非寻常光产生 π/2 的位相差，两者的振动方向相互垂直，变为椭圆偏振光，其长、短轴沿着 1/4 波片的 快、慢轴。椭圆的形状由起偏器的方位角来决定。椭圆偏振光以一定的角度入射到样品的表面，反射后偏振状态发生改变，一般仍为椭圆偏振光，但椭圆的方位和形状改变了。从物理光学原理可 以知道，这种改变 与样品表面膜层厚 度及其光学常数有 关。因而可以根据 反射光的特性来确 定膜层的厚度和折 射率。图 1 为基本 原理光路。 2 为入射光 由环境媒质入射到单层薄膜上，并在环境媒质——薄膜——衬底的两个界面上发生多次折射和反射。此时，折射角满足菲涅尔折射定律 N1 sin 1 N2 sin 2 N 3 sin 3 (1) 1 其中 N1，N2 和 N3 分别是环境媒质、 薄膜和衬底的复数折射率 （本文中复折射率定义为 N = n –ik）； 1 为入射角、 2 和 3 分别为 s p 薄膜和衬底的折射角。 光在分界面的反射，要分两种光波 状态来分析。 电矢量在入射面的光波叫 p 波，垂直于入射面的叫 s 波，每个光束 可分解为 p 分量和 s 分量。一般情况下两者的反射系数是不相同的。由菲涅尔 反射系数公式可知，光波电矢量的 p 分 量和 s 分量在两个界面处的反射系数 r 分别为：  1 空气 N1 膜 N2 d 2 衬底 N3 3 图 2 薄膜反射 r1 p ( N 2 cos 1 N1 cos 2 ) ( N 2 cos N1 cos 2 ) 1 r2 p ( N 3 cos 2 N 2 cos 3 ) ( N 3 cos N 2 cos 3 ) 2 r1s (N1 cos 1 N 2 cos 2 ) (N1 cos N 2 cos 2 ) 1 r2s ( N 2 cos 2 N3 cos 3 ) ( N 2 cos N3 cos 3 ) 2 从图 2 中可以看出，总反射光是薄膜内各级反射光干涉叠加的结果，总的反射系数 为： r1 p r2 p e i 2 Rp r1 p r2 p e i 2 1 r1s r2 se i 2 Rs r1s r2 se i 2 1 4 d ( N 22 N12 sin2 1 1 ) 2 2 其中 2δ为相邻两束反射光的相位差， d 为薄膜厚度， λ为入射波长。 分析光在样品上反射时的状态改变，需用描述振幅状态变化和位相状态变化的量， 因而在椭圆偏振法中，采用 和 来描述反射时偏振状态的改变。现定义：  (2) (3) (4) (5) (6) (7) (8) 2 tan ψei Rp (9) Rs 即 p 波分量与 s 波分量总反射系数之比。其中 tan 相当于复数的模量、相对振幅衰减； 为位相移动之差。 和 是椭圆偏振法中的两个基本量。 从 (1) ~ (8) 式可以看出， (9)式右边的 Rp/Rs取决于入射波长 λ、入射角 1、环境和衬底 复折射率 N1 和 N3，以及薄膜厚度 d 和薄膜复折射率 N2。而在椭偏仪消光条件下， (9)式 左边的椭偏参量 和 与椭偏仪的检偏角 A 和起偏角 P 有简单的换算关系， 所以 和 可以 由实验确定。这样，从 (9)式就可以得到实部和虚部两个方程。 需要说明的是，当在空气中进行测试时， (1) 式中的 N1sin 1 为实数，如果 N2 和 N3 的 虚部不为零，则 2 和 3 也必然是复数。同样， (8)式中的相位差 2δ也必然是复数。在