文稿讲义内容控制回路.pptxVIP

;复杂控制算法;单回路pid控制; 在硝酸生产中，氧化炉是关键设备之一，氨气和空气在铂触媒的作用下，在氧化炉内进行氧化反应： 4NH3+5O2→4NO+6H2O+Q 反应结果得到NO气体。工艺要求：氧化率达到97%以上，为此要将氧化炉温度控制在840+5oC。 ;几种控制方案：;方案② 氨气流量调节系统，工艺提供氨气流量变化1%，氧化炉温度变化64 ℃，设计氨气流量调节系统能迅速克服氨气流量的干扰，这样把氨气流量变化克服在影响反应温度之前，但偏差仍达8oC。这是因为氧化炉还存在其他干扰：如空气量，触煤老化等问题。; 方案③ 温度为主参数，流量为副参数的串级调节系统。由温度调节器（工程上常称控制器为调节器）来决定氨气的需要量，而氨气的需要量是由流量调节系统来决定的，即流量调节器的给定值由温度调节器的需要来决定：（ⅰ）变还是不变 （ⅱ）变化多少 （ⅲ）朝哪个方向变。因此出现了反应温度信号自动地校正流量调节器给定值的方案，即串级调节系统（如图2.1-2所示） 。; 串级调节系统原理图 ; 两个调节器，两个变送器，一个调节阀，主调节器的输出作为副调节器的给定，副调节器输出到调节阀。; 1.方块图及常用名词 串级调节系统的方块图如图2.1-3所示 ;串级调节系统中常用的几个术语 主参数（主被控变量y1）：生产工艺过程中主要控制的工艺指标，在串级调节系统中起主导作用的那个被调参数即为主参数，如氧化炉反应温度。 副参数（副被控变量y2）：影响主参数的主要变量和中间变量（如上述系统的氨气流量）。 主被控 对象（Gp1(s)）：为生产中所要控制的，由主参数表征其主要特性的工艺生产设备（如氧化炉）。一般指副参数检测点到主参数检测点的全部工艺设备。;副被控对象（Gp2(s)）：调节阀到副参数测量点之间的工艺设备。 主调节器（Gc1(s)）：在系统中起主导作用，为恒定主参数设置的控制器。主调节器，按主参数与给定值的偏差而动作，其输出作为副参数的给定值。 副调节器（Gc2(s)）：给定值由主调节器的输出所决定，输出直接控制阀门。 主回路：把副回路等效起来看的整个回路 副回路：断开主环时，由副调节器，调节阀，副对象，副测量元件组成的内环 ;以氨氧化炉反应温度与流量串级调节系统为例 1）干扰作用于副回路（设氨气流量干扰F2增加）时，如图2.1-4所示 ;开始：假设副回路给定值不变，氨气流量干扰F2使氨气流量y2增加，流量调节器（反作用）输出减小，从而使调节阀开度（气开阀）减小，通过副回路的调节，最终使氨气流量y2恢复到给定值。 继而：由于氨气流量y2增加进入主回路后，使氧化炉的温度y1增加，温度调节器（反作用）输出减小，也就是流量调节器给定值减小，由于流量调节器为反作用，因此输出到调节阀膜头信号减小，这样引起调节阀开度减小，使氨气流量y2减小，通过主回路的调节，最终使氧化炉的温度y1恢复到给定值。; 通过上述的调节可看出：当干扰进入副回路，由于主、副回路的共同作用（作用方向相同，都是使氨气流量调节阀开度减小），使副调节器的给定与测量两方面变化加在一起，加速了克服干扰的能力。 2)干扰作用于主回路（设空气流量干扰F1增加）时，如图2.1-5所示 ;图2.1-5 干扰进入主回路串级调节系统方框图; 当空气流量受干扰作用增加时，造成氧化炉温度增加，温度调节器（反作用）输出减小，也就是流量调节器（反作用）的给定值减小，这样流量调节器输出到氨气流量调节阀的信号减小，从而使进入氧化炉的氨气量减小，使氧化炉的温度减小回复到设定值。 ; 此调整过程是温度（主）调节器根据偏差进行调节输出，改变氨气流量（副）调节器给定值，副调节器随动改变其自身的输出值，使调节阀关小阀门开度，减小进入氧化炉的氨气量，从而使氧化炉温度，回到给定值。 氨流量调节不是干扰直接产生的，而是调节氧化炉温度的需要。; 这种调节方式虽然从工作频率来说要比单回路高得多，调节时间大大缩短，但最大偏差往往比较大。所以说串级调节系统最适合的设计，应是将主要干扰包含在副回路内 。总之，引入副回路有两种目的： ①取主要干扰为副参数，起镇定输入参数的作用（如氨氧化炉反应温度调节） ②取中间变量为副参数，起预报主参数变化的作用（如加热炉温-温串级）;;串级控制（3）; ; ; ; 由于过程工业中大部分物料是以气态、液态或混合的流体状态在密闭管道、容器中进行能量传递与物质交换，以保持两种或几种物料的流量比例关系，因此比值控制系统一般是指流量比值控制系统。; ; ; ; ;