微纳科学技术复习指导.pdfVIP

复习指导 1. 半导体蓝图规划的下一代图形转移技术涉及到四种可能的技术选择，是哪些技 术？ 2. 光学光刻技术目前发展的现状，并依据瑞利公式 对光学光刻技术进行优化的可 能性。 3. 光学临近效应矫正、移相掩模、浸润式镜头技术是近年光学光刻继续在图形转移技 术中无可替代的重要支撑。试 之。 4. 质子束作为能流微纳加工的新方向，试 其特点及近年的国内 展。 5. 在现代工业中应用极为广泛，如CRT 显示，SE