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第二章习题
1.实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答: (1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实
际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
(2)理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
(3)理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和
面缺陷等。
2. 以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。
As 有 5 个价电子,其中的四个价电子与周围的四个 Ge 原子形成共价键,还剩余
一个电子,同时 As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以,一个 As
原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子 . 多余的电子束
缚在正电中心,但这种束缚很弱 , 很小的能量就可使电子摆脱束缚,成为在晶格中导
电的自由电子,而 As 原子形成一个不能移动的正电中心。这个过程叫做施主杂质的
电离过程。能够施放电子而在导带中产生电子并形成正电中心,称为施主杂质或 N 型
杂质,掺有施主杂质的半导体叫 N 型半导体。
3. 以 Ga 掺入 Ge 中为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和 p 型半导体。
Ga有 3 个价电子,它与周围的四个 Ge 原子形成共价键,还缺少一个电子,于是在 Ge
晶体的共价键中产生了一个空穴,而 Ga原子接受一个电子后所在处形成一个负离子
中心,所以,一个 Ga 原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个负电中心和一个空穴,
空穴束缚在 Ga 原子附近,但这种束缚很弱,很小的能量就可使空穴摆脱束缚,成为
在晶格中自由运动的导电空穴,而 Ga原子形成一个不能移动的负电中心。这个过程
叫做受主杂质的电离过程,能够接受电子而在价带中产生空穴,并形成负电中心的杂
质,称为受主杂质,掺有受主型杂质的半导体叫 P 型半导体。
4. 以 Si 在 GaAs中的行为为例,说明 IV 族杂质在 III-V 族化合物中可能出现的双性
行为。
Si 取代 GaAs中的 Ga原子则起施主作用; Si 取代 GaAs中的 As 原子则起受主作
用。导带中电子浓度随硅杂质浓度的增加而增加,当硅杂质浓度增加到一定程度
时趋于饱和。硅先取代 Ga原子起施主作用,随着硅浓度的增加,硅取代 As 原子
起受主作用。
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5.
举
例 当半导体中同时存在施主和受主杂质时,
说
若( 1)NDNA
明
因
有 ND-NA 个电子在施主能级上,杂质全部电离时,跃迁到导带中的导电电子的浓度
为
受
为 n=N-N 。即则有效受主浓度为 N ≈N -N
主 D A Aeff D A
能
(2) NAND
级
低
施
于
们可接受价带上的 NA-ND 个电子,在价带中形成的空穴浓度 p=NA-ND. 即有效受主浓度
主
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