纳米压印光刻机承片台的设计.doc

本科毕业设计（论文）说明书 PAGE PAGE IV 摘要 纳米压印光刻技术是一种可以制造微纳米结构的制造技术，具有成本低，生产效率高和设备简易的特点。在压印中，最主要的问题是保证模板与基片的平行问题。模版与基片的不平行也将导致下压时模版与基片的相对滑移, 发生侧向扩张,影响压印的精度, 另外在起模时模版也会对压印特征造成破坏。因此压印过程中必须保证模版与基片的平行度。 本文主要介绍了纳米压印光刻机承片台的结构设计，实现6英寸整片晶元的大面积压印光刻。首先从总体上介绍了纳米压印光刻技术的发展，论述了相关的课题背景，纳米压印原理、整片晶圆纳米压印的装置和方法以及模板与基片的平行原理。在