UV／H2O2高级氧化工艺反应机理与影响因素最新研究进展.pdf

第 32卷 第 3 期 化学工业与工程技术 Vol. 32 No. 3 2011年 6 月 Journal o f Chemical Industry Engineering Jun., 2011 专论与综述 u v /H2o 2 高级氧化工艺反应机理与影响因素 最新研究进展 刘 杨 先 ，张 军 ( 东南大学能源与环境学院，江 苏 南 京 210096) 摘 要 ：U V /H 2()2 高级氧化工艺具有工艺流程简单、氧化能力强、H2()2 利用率高以及无二次污染等 优 点 ，显示出良好的发展潜力和应用前景。介绍了 U V /H 2()2 高级氧化工艺的反应机理，并在此基础上 着 重 对 影 响 U V /H 20 2 反应过程的主要工艺参数（紫外光强度、紫外光波长、H2(.)2 浓 度 、溶液温度、污染 物初始浓度、初 始 p H 值以及溶液中无机阴离子）进行了综述。对目前该技术存在的问题以及发展方向 作了简单的总结与展望。 关键词 ：紫 外 光 高 级 氧 化 紫 外 光 /过 氧 化 氢 反 应机 理 影 响 因 素 中图分类号：TK16 文献标识码 ：A 文章编号 = 1006 - 7906( 2011)03 - 0018 -07 New research progress in reaction mechanism and several factors of U V /H 2〇2 advanced oxidation process LIU Yangxian ，ZHANG Jun (School of Energy 8^ Environment, Southeast University, Nanjing 210096, China) Abstract ：U V /H 2 O2 advanced oxidation process displays a great potential because of its advantagevS in simple process, strong oxidation, high H2〇2 utilization and no secondary pollution. An in-depth on the reaction mechanism and the several in­ fluencing factors ( U V intensity, UV wavelengths, H2〇2 initial concentration, solution temperature, pollutants initial concen­ tration» initial pH value and inorganic anions in solution) are carried out. The present problems and the development prospect of this technology are put forward simply. Keywords ：UV ? Advanced oxidation process ；U V /H 2〇2 ; Reaction mechanism ；Influencing factors 1894年，Fenton 发 现 Fe2+和 H20 2 混合后可 针对 U V /H2()2技术进行全面介绍的文献较少，笔