重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂——正性光致抗蚀剂的制备与性质.pdfVIP

重氮萘醌磺酸酯 - 酚醛树脂 正性光致抗蚀剂的制备与性质 摘要： 本实验采用 2,3,4- 三羟基二苯甲酮作为接枝化母体，与 2,1,5 －重氮萘醌磺酰氯进行 酯化，合成感光化合物。之后再与线性酚醛树脂— BTB24配合，溶于乙二醇乙醚，再加入少量 添加剂，制得酚醛树脂 - 重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂。将其涂布于铝版基上，烘干，曝光，显 影。结果表明，最佳曝光时间为 90S，分辨率为 12um，网点保留下限为 10%，上限为 90%。 关键词： 光致抗蚀剂 化学增幅 感光度 重氮萘醌磺酸酯 - 酚醛树脂 在半导体器件和集成电路制造中，要在硅片等材料上获得一定几何图形的抗蚀保护层， 是运用感光性树脂材料在控制光照（主要是 UV 光）下， 短时间内发生化学反应， 使得这类材 料的溶解性、熔融性和附着力在曝光后发生明显的变化；再经各种不同的方法显影后获得的。 这种方法称为 “光化学腐蚀法 ”，也称为 “光刻法 ”。这种作为抗蚀涂层用的感光性树脂组成物称 为 “光致抗蚀剂 ”（又称光刻胶）。 按成像机理不同，光致抗蚀剂可分为负性光致抗蚀剂和正性光致抗蚀剂： （1）负性光致 抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶中光照部分发生交联反应，溶解度变小，用适当溶剂即可 把未曝光的部分显影除去 , 在被加工表面形成与曝光掩膜相反的图像，因此称为负性光致抗蚀 剂。 （2 ）正性光致抗蚀剂：在紫外光照射下，光刻胶的光照部分发生分解，溶解度增大，用 适当溶剂可以把光照部分显影除去，即形成与掩膜一致的图像，因此称为正性光致抗蚀剂。 如图 1 所示。 图 1 光致抗蚀剂成像过程 20 30 , Oskar S ss 世纪 年代 德国卡勒公司的 ü 首先发现了重氮萘醌系感光化合物。它是 以 2,1,5 或 2,1,4 重氮萘醌磺酰氯为代表的重氮萘醌化合物与含羟基的高分子或小分子进行酯 , i- ( : 365nm) g- ( 化后得到的感光化合物。由于其具有感光范围宽 从 线 感光波长 到 线 感光波 长 : 436nm) 都有较高的分光感度 , 尤其是与线形酚醛树脂或酚树脂配合 , 具有稀碱水显影 , 显 影宽容度高 , 操作方便， 储存稳定性好等优点， 使得重氮萘醌系感光材料在 20 世纪 60 年代后 广泛应用于印刷 PS 版感光剂及集成电路加工光致抗蚀剂。至今仍普遍使用的 g- 线和 i- 线光 致抗蚀剂都主要采用重氮萘醌系感光体系。 重氮萘醌磺酸酯 -酚醛树脂体系正性光致抗蚀剂的成像原理：感光涂层受紫外光照射后， 2 曝光区的重氮萘醌磺酸酯发生光解，放出 N形成烯酮，烯酮遇水形成茚酸而易溶于稀碱水。由 此通过稀碱水显影便得到了在未曝光区抗蚀膜保留的正型图形。以 2,1,4 －重氮萘醌磺酸酯为 例，其成像原理如图 2所示： O O N2 C hv