光纤通信课件第四讲.pptxVIP

光纤制造工艺 　以石英光纤为例，实用的制造方法有内气相氧化法(IVPO)、外气相氧化法(OVPO)、改进的化学气相沉积法(MCVD)、气相轴向沉积法(VAD)及等离子化学气相沉积法(PCVD)等。欧美及我国主要采用改进的化学气相沉积法MCVD法，该法提高了反应物浓度使沉积速率，比化学气相沉积(CVD)法快100倍以上，并且可在数小时内将预制件拉成几公里长的多模纤维，由于简单实用，已成为常规的光纤生产方法。日本则开发气相轴向沉积法VAD工艺，除回收率高外，还可制成大型预制件(达2500g，可拉制50μm芯径的光纤580km)，可采用低纯原料。 　　;许多厂家均以SiCl4为原料生产石英光纤，原因是Fe、Ni、Cu等氯化物易于用精馏法除去。某些多晶硅生产厂家在用SiHCl3氢还原生产多晶硅的过程中产生大约30％的副产物SiCl4，用这种副产物生产光纤显著降低了成本。 为了获得纤芯与包层折射指数呈阶跃变化(SI型)或梯度变化(GI型)的光纤，生产芯料时皆在高纯SiCl4(99.9999％)中加入百分之几的GeCl4，也有掺锗烷的。;表： MCVD和VAD工艺水平比较;4.1.1光纤的制造;4.1.2光纤的制造;4.1.3光纤的制造;4.1.4光纤的制造;4.1.5光纤的制造;4.1.6光纤的制造;4.1.7光纤的制造;4.2.1 光缆的结构和种类;4.2.2光缆的结构和种类;