2010多端口的微腔激光器的研制-开放课题申请书.docxVIP

图2金届-绝缘层限制两端口输出回音壁模微腔的二维 FDTD^算模型 2）多端口输出半导体回音壁模微腔激光器的实验制作 根据以前工作的基础（实验制作正方形微腔激光器），我们设计的实验方案 如下： a、 器件设计：采用IC设计软件L-eidt设计器件的二维平面图形； b、 光刻板制作：采用电子束曝光技术制作； c、 掩膜层沉积：采用PECVD等离子体沉积台在外延片上沉积掩膜层 SiO2 或 Si3N4； d、 图形转移：采用光刻、湿影、感应耦合等离子体（ICP）干法刻蚀把光 刻板上的器件图形转移至掩膜层； e、 外延片刻蚀：采用ICP干法刻蚀技术，刻蚀外延至衬底层； f、 平滑器件侧面：采用湿法腐蚀平滑器件的刻蚀面， 减小器件侧面的粗糙 度，后去除掩膜层； g、 沉积绝缘层：采用PECVD等离子体沉积台沉积一层 SiO2或Si3N4； h、 开电注入窗口 ：采用光刻、湿影、ICP干法刻蚀等技术，去除器件顶端 的绝缘层，打开电注入窗口； i、 沉积p-型电极：采用磁控溅射大面积沉积 Ti/Au或Au或Ag作为p-型 电极； j、 衬底减薄：采用研磨的方法，使衬底减薄至 100 pm附近； k、 沉积n-型电极：Au-Ge-Ni等。 图2金届-绝缘层限制两端口输出回音壁模微腔的二维 FDTD^算模型 2）多端口输出半导体回音壁模微腔激光器的实验制作 根据以前工作的基础（实验制作正方形微腔