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太阳能电池工艺流程;制绒和清洗;概 述;硅片表面的机械损伤层;制绒：表面织构化;绒面腐蚀原理;绒面光学原理;绒面光学原理;影响绒面质量的关键因素;化学清洗原理;;扩散;扩散的目的：形成PN结;１．三氯氧磷（POCl3）液态源扩散 ２．喷涂磷酸水溶液后链式扩散 ３．丝网印刷磷浆料后链式扩散 本公司目前采用的是第一种方法。 ;清洗;扩散装置示意图;POCl3磷扩散原理; 在有氧气的存在时，POCl3热分解的反应式为： POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面，P2O5与硅反应生成SiO2和磷原子，并在硅片表面形成一层磷-硅玻璃，然后磷原子再向硅中进行扩散 。;由上面反应式可以看出，POCl3热分解时，如果没有外来的氧（O2）参与其分解是不充分的，生成的PCl5是不易分解的，并且对硅有腐蚀作用，破坏硅片的表面状态。但在有外来O2存在的情况下，PCl5会进一步分解成P2O5并放出氯气（Cl2）其反应式如下： 生成的P2O5又进一步与硅作用，生成SiO2和磷原子，由此可见，在磷扩散时，为了促使POCl3充分的分解和避免PCl5对硅片表面的腐蚀作用，必须在通氮气的同时通入一定流量的氧气 。;影响扩散的因素;在太阳电池扩散工艺中，扩散层薄层电阻（方块电阻）是反映扩散层质量是否符合设计要求的重要工艺指标之一。 方块电阻也是标志进入半导体中的杂质总量的一个重要参数。;方块电阻的定义 ;等离子体刻蚀;等离子体刻蚀模型;等离子体刻蚀原理;首先，母体分子CF4在高能量的电子的碰撞作用下分解成多种中性基团或离子。 其次，这些活性粒子由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面，并在表面上发生化学反应。 生产过程中，CF4中掺入O2，这样有利于提高Si和SiO2的刻蚀速率。;等离子体刻蚀反应;边缘刻蚀控制;去PSG;去磷硅玻璃模型;什么是磷硅玻璃？;磷硅玻璃的去除;SiNx:H减反射膜;SiNx:H简介;PECVD =Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 即“等离子增强型化学气相沉积”，是一种化学气相沉积 PECVD是借助微波使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。;安全事项;丝网印刷与烧结;电池片丝网印刷的三???骤;背面电极及电场图示;正面栅线图示;丝网印刷原理;烧结的目的;烧结对电池片的影响;;Thank you!