全球光刻机市场发展低迷国内技术较落后但政策驱动下研发进度加快.docxVIP

? ? ? ? ? 全球光刻机市场发展低迷国内技术较落后但政策驱动下研发进度加快 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 提示：光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。 ? ? ? ?光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。 光刻机产品分类（按有无掩模分类） ? 资料来源：公开资料整理 ? ? ? ?从全球范围内来看，IC前道光刻机技术最为复杂，但随着相关技术水平的不断提高，其产品销量不断增长。数据显示，2016-2018年全球IC制造前道光刻机销量整体处于上升趋势，2018年出货量达到374台；2019年略有下降，出货量为359台。 2016-2019年全球IC制造前道光刻机出货量 ? 数据来源：公开资料整理 ? ? ? ?目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的NIKON和CANON所占据主动权，呈三足鼎立局面。其中，在2019年全球光刻机市场竞争格局中，荷兰ASML公司市场份额占比最大。 2019年全球光刻机市场竞争格