半导体制造工艺第3章清洗工艺.pptxVIP

半导体制造工艺;第3章　清 洗 工 艺;第3章　清 洗 工 艺;3.1　引言;3.1　引言;3.2　污染物杂质的分类;3.2　污染物杂质的分类;3.2　污染物杂质的分类;3.2　污染物杂质的分类;3.2　污染物杂质的分类;3.2　污染物杂质的分类;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.3　清洗方法概况;3.4　常用清洗设备——超声波清洗设备;3.4　常用清洗设备——超声波清洗设备;3.4　常用清洗设备——超声波清洗设备;3.4　常用清洗设备——超声波清洗设备;3.4　常用清洗设备——超声波清洗设备;3.5　质量控制