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- 约 21页
- 2021-10-13 发布于广东
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作者: Jonathan Dodge
Microsemi Corporation
众所周知,由于采用了 绝缘栅 ,功率 MOSFET 器件只需很小的驱动功率,且 开关 速度优异。
可以说具有 理想开关“ ”的特性。其主要缺点是开态电阻 (R DS(on) )和正温度系数较高。本教程
阐述了高压 N 型沟道功率 MOSFET 的特性, 并为器件选择提供指导。 最后,解释了 Microsemi
公司 Advanced Power Technology (ATP) MOSFET 的数据表。
功率 MOSFET 结构
图 1 为 APT N 型沟道功率 MOSFET 剖面图 ( 本文只讨论 N 型沟道 MOSFET) 。在栅极和源
极间加正压, 将从衬底抽取电子到栅极。 如果栅源电压等于或者高于阈值电压, 栅极下沟道
区域将积累足够多的电子从而产生 N 型反型层;在衬底形成导电沟道 (MOSFET 被增强 ) 。
电子在沟道内沿任意方向流动。电子从源极流向漏极时,产生正向漏极电流。沟道关断时,
正向漏极电流被阻断,衬底与漏极之间的反偏 PN 结维持漏源之间的电势差。对于 N 型
MOSFET ,正向导通时,只有电子流,没有少子。开关速度仅受限于 MOSFET 内寄生电容
的充电和放电速率。因此,开关速率可以很快,开关损耗很低。开关频率很高时,这让功率
MOSFET 具有很高的效率。
图 1:N 型沟道 MOSFET 剖面图。
开态电阻
开态电阻 RDS(on) 主要受沟道、 JFET( 积累层 )、漂移区和寄生效应 (多层金属,键和线和封装 )
等因素的影响电压超过 150V 时, R DS(on) 主要取决于漂移区电阻。
图 2 :RDS(on) 与电流的关系。
高压 MOSFET 中R DS(on) 与电流的相关较弱。电流增大一倍 RDS(on) 仅提高了 6% ,见图 2 。
图 3 :RDS(on) 与温度的关系。
相反,温度对 RDS(on) 的影响很大。 如图 3 ,温度从 25 ℃升高到 125 ℃,开态电阻提高近一倍。
图 3 中曲线的斜率反映了 RDS(on) 的温度系数,由于载流子仅为多子,该温度系数永远为正。
随着温度的升高,正温度系数将使导通损耗按照 I2R 增大。
功率 MOSFET 并联时,正的 RDS(on) 温度系数可以保证热稳定性,这是其很好的特性。然而,
不能保证各分路的电流均匀。这一点容易被误解。 MOSFET 易于并联正是因为其参数的分
布狭窄,特别是 RDS(on) 。并且与正温度系数相结合,可避免电流独占。
如图 4 ,对于任何给定的芯片尺寸,随着额定电压的增大, RDS(on) 也会随之增大。
图 4 :归一化后的 RDS(on) 与V (BR)DSS 的关系。
对于功率 MOS V 型和功率 MOS 7 型 MOSFET 器件,通过对额定 RDS(on) 与V (BR)DSS 的关系曲线
进行拟和,可发现 RDS(on) 增量与 V (BR)DSS 的平方成正比。这种非线性关系显示了降低晶体管
导通损耗的可能 [2] 。
本征和寄生参数
JFET 寄生于 MOSFET 结构中,见图 1 。这对 R DS(on) 影响很大,并且是 MOSFET 正常操作的
一部分。
本征衬底二极管
衬底和漏之间的 PN 结所形成的本征二极管称为体二极管 (见图 1) 。由于衬底与源极短接,
无法将反向漏极电流关
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