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《微电子技术综合实践》指导书
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?微电子技术综合实践?指导书
一、设计目的与要求
全面掌握?半导体器件物理?与?集成电路工艺原理?课程的内容,加深对双极型和MOS型晶体管的设计及其集成电路制造工艺的理解,学会利用专业理论知识来设计和分析半导体器件特性及其制造工艺。
学会利用ISE软件来分析和优化半导体芯片的特性及其制造工艺的条件和参数。
培养学生独立分析和解决实际工艺问题的能力。
培养学生的团队协作精神、创新意识、严肃认真的治学态度和求真务实的工作作风。
二、设计任务要求
根据给定芯片的特性指标,确定芯片的构造参数,设计其工艺流程,确定工艺方法、工艺条件,画出光刻版的示意图,确定工艺实施方案。具体设计任务详见?微电子技术综合实践任务书?。
三、实施步骤
在设计过程中,为了顺利完成任务,可参考以下实施步骤:
了解题目内容,详细分析题目的具体要求;
确定总体设计思路。根据特性指标要求,分析影响器件特性的关键构造参数,以及相互制约关系,给出折衷方案;
建立构造模型,利用ISE软件进展特性分析,找出最正确的构造参数;
分析半导体芯片的构造特点,初步确定其工艺流程;
分析影响芯片特性的关键工艺,找出关键构造参数及其相互影响关系;
根据芯片的工艺流程,选择适当的工艺实现方法;
利用ISE软件进展工艺流程以及工艺条件的模拟,找出满足初定构造参数所对应的最正确工艺条件;
验证工艺条件的可行性,确定最终工艺条件;
根据构造参数与工艺分析结果,画光刻幅员〔示意图〕,给出最终的工艺实施方案;
10、编写设计报告,总结设计中的体会或收获。
四、根本格式标准要求
1、设计报告可采用统一标准的稿纸书写,也可以用16k纸按照撰写标准单面打印,并装订成册。内容包括:
封面〔包括题目、院系、专业班级、学生学号、学生姓名、指导教师姓名、职称、起止时间等〕
设计任务
目录
设计正文〔即设计计算说明书,参考字数:5000字/2周〕
参考文献
评语
2、封面格式〔第一页〕
?
?微电子技术综合实践?设计报告
题目:
院系:
专业班级:
学生学号:
学生姓名:
指导教师姓名: 职称:
起止时间:
成绩:
2、目录格式〔第二页〕
一、设计方案或
一、设计方案或步骤
二、器件的特性模拟与设计
三、芯片工艺流程分析〔要求画出工艺流程剖面图〕
四、芯片的工艺模拟与设计
五、结果分析与参数汇总
六、工艺实施方案〔要求给出总的掺杂分布〕
七、总结〔设计体会〕
目 录
设计要求…………………………………………………………………1
4、工艺实施方案格式
工艺
步骤
工艺名称
工艺目的
设计目标构造参数
工艺方法
工艺条件
1
衬底选择
衬底
电阻率
晶向
2
外延
为….提供…..
厚度:
常压外延/
低压外延
掺杂剂
反响剂
温度
速率/时间
3
一次氧化
为…….提供掩蔽膜
厚度:
干氧-湿氧-干氧
温度/时间
4
一次光刻
为….提供扩散窗口
常规方法/
刻蚀方法/
曝光方法
正胶
或负胶
5
一次扩散
形成......... 区域
结深:
外表浓度/
方块电阻
掺杂方式
杂质类型
温度/时间
能量/剂量
6
7
8
9
化学气相淀积CVD
为….提供…..膜
厚度:
CVD方法
掺杂剂
反响剂
温度
速率/时间
10
11
12
13
14
15
16
17
5、参考资料格式
期刊类:[序号]作者1,作者2,……作者n.文章名.期刊名〔版本〕.出版年,卷次〔期次〕:页次.
图书类:[序号]作者1,作者2,……作者n.书名.版本.出版地:出版社,出版年:页次.
五、考核
考核方法与评分标准按以下三个方面要求:
1、写一份设计报告〔40分〕,内容要求如下:
设计题目与要求〔5分〕
特性模拟与设计/工艺模拟与设计〔10分〕
结果分析与参数验证、汇总〔10分〕
给出工艺实施方案〔10分〕
设计体会或存在问题〔5分〕
2、验收、PPT辩论及答复下列问题〔50分〕。
3、平时考勤和答疑时的提问情况〔10分〕。
验收形式:交报告、PPT辩论、答
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