循环水中各种缓蚀阻垢剂的用量及配方.pdfVIP

1) 聚磷酸盐 ( 六偏磷酸钠、 三聚磷酸钠 ) 阻垢剂。使用时加入水中浓度为～ 10ppm，适 合于低压锅炉。 ①六偏磷酸钠 (NaPO3)6，由磷酸二氢钠脱水经高温 (600 ～650℃) 处理后，急 剧冷却而制得。 ②三聚磷酸钠，即三磷酸钠 (Na5P3O10)，由磷酸二氢钠和磷酸氢二钠充分混 合，加热脱水，再高温熔融而成。 (2) 膦酸盐阻垢剂 常用的药剂有以下几种： ①羟基乙叉二膦酸，结构式为： 别名为 HEDP，含量为 50%，为** 透明粘稠液体， 显强酸性 (pH=2～3) ，具腐性。 羟基乙叉二膦酸多由三氯化磷与醋酸等原料制成，其合成反应如下： 【用途】HEDP为阴极型缓蚀剂。在水溶液中， HEDP可解离成 5 个正、负离子， 可与金属离子形成六员环螯合物，尤其是与钙离子可以形成胶囊状大分子螯合物， 阻垢效果较佳。 HEDP与其它缓蚀剂、 阻垢剂配合使用， 具有协同效应， 可提高药效。 例如与铬酸盐、钼酸盐、硅酸盐、亚硝酸盐、聚丙烯酸盐、锌盐等配合使用，多用 于锅炉水处理、冷却水的处理，使用量一般低于 1～3ppm，适用于低、中压锅炉用 水的处理。 ②乙二胺四甲叉四膦酸，其结构式为： 别名为 EDTMP，其钠盐为棕 ** 透明粘稠液体， 含量为 28%～30%，pH=9～10。 EDTMP多由甲醛、乙二胺、三氯化磷为原料制成。其合成反应如下： 【用途】EDTMP为有机多元膦酸阴极缓蚀剂。在水中， EDTMP能解离成 8 个正、 负离子，可以和两个或多个金属离子螯合，形成两个或多个立体结构大分子粘状络 合物，松散地分散于水中，使钙垢的正常结晶破坏，减少垢的形成。 EDIMP 多用于 锅炉水的阻垢。加入水中浓度为 1ppm，适用于中、低压锅炉。 ③氨基三甲叉膦酸，其结构式为： 别名为 ATMP，含量为 50%，为淡** 液体。本品多由三氯化磷、铵盐、甲醛 等原料反应制得，其反应原理为： PCl3+3H2O→H3PO3+3HCl 3H 3PO3+NH4Cl+HCHO→ATMP+CO2+3H2O 【用途】ATMP为阴型缓蚀剂。在水溶液中 ATMP经解离成六个正离子和六个负 离子，能与水中 Ca サ， Mg サ形成多元螯合物。这个大分子螯合物以松散的方式分 散于水中，使钙、镁等垢的正常结构遭到破坏，所以 ATMP有阻垢效果。多用于锅炉 用水，印染用水、油田注水的防垢，一般用量为 3～10ppm。 (3) 氨基化合物阻垢剂 常用的药剂有： ①二乙撑三胺，其结构式： H2N(CH 2)2NH(CH2)2NH2 ②三乙撑四胺，其结构式： H2N(CH2 )2NH(CH2)2NH(CH2)NH2 ③四乙撑五胺，其结构式： H2N(CH2 )2NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)2NH2 ④聚丙烯酰胺，其结构式： 聚丙烯酰胺，由丙烯酸和丙烯酰胺两种单体共聚得到，也可由聚丙烯腈水解 聚合制得。 氨基化合物阻垢剂， 使用时，加入水中浓度为～