下摆机精磨抛光实用工艺.pdfVIP

标准实用 文件名称 下摆机研磨工艺 制定时间 版次 第一版 作成 审核 批准 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径 R值，并满足零件光圈数 N及光圈局部 误差△ N的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃 表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削 作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切 向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表 明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速 率越高 ( 如氧化铈 Ce02 抛光粉比红粉 Fe203 硬度高，前者比后者抛光速率高 2～3 倍) 。 另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速 抛光即是依此而发展起来的。 通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为 1～ 具 1.2 um 。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 体 三、抛光基本常识： 内 1、光圈的概述： 被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时， 它们之间形成对称的 容 契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩 色环称为光圈，物理学中称牛顿环。 光圈数：红色光圈有几圈，光圈数就几圈 . 光圈 象散光圈允差 →椭圆、马鞍形、棱形 （面检） （△N1 表示） 局 部 光圈局部不规则程度 →中高、中低、翘边等 2、光圈的识别： （△N2 表示） 高光圈与低光圈： a. 高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈； b. 低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈； 高光圈 低光圈 3、光圈数与局部误差的计算方法： a) 光圈数的计算方法： N=N检-N 补 光圈数 N，实际光圈数为 N检，基准补负为Ｎ补。 例：基准补负 2 圈，实际测光圈数为－４圈， 则：Ｎ＝Ｎ检－Ｎ补 =4- （-2 ）=-2 圈 b) 局部误差计算方法： 文案大全 标准实用 A、象散光圈：△ N1=b/a-1 B 、光圈局部不规划：△ N2=a/b=0.2/1=0.2 规则： 0.5 圈 OK a