第十一讲-透射电子显微镜.pptxVIP

第十一讲-透射电子显微镜会计学透射电子显微镜在形貌分析上的应用第1页/共89页基本知识透射电镜原理透射电镜的结构电子衍射原理高分辨透射电镜样品制备材料应用第2页/共89页基础知识1925年，de Broglie提出波粒二象性假说1926年 ，Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束1927年，Davsso和Germer分别进行了单晶和多晶电子衍射实验 （1937）1931年，Knoll和Ruska制造了带双透镜的电子源，获得了放大12- 17倍的电子光学系统中光阑的像1932年 ， Knoll和Ruska研制出第一台电镜（点分辨率达到50nm）1936年，英国生产出第一批商用透射电镜1939年，德国西门子公司生产商用透射电镜（点分辨率10nm） 1950年，开始生产高压电镜（点分辨率优于0.3nm，晶格条纹分辨率 优于0.14nm） 1956年，门特(Menter)发明了多束电子成像方法，开创了高分辨电 子显微术， 获得原子像。 阿贝光栅成像原理第3页/共89页成像系统光路图如图所示。当来自照明系统的平行电子束投射到晶体样品上后，除产生透射束外还会产生各级衍射束，经物镜聚焦后在物镜背焦面上产生各级衍射振幅的极大值。每一振幅极大值都可看作是次级相干波源，由它们发出的波在像平面上相干成像，这就是阿贝光栅成像原理。 第4页/共89页透射电镜的基本原理阿贝光学显微镜衍射成像原理同样