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- 2021-11-23 发布于天津
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第一节概述
由于电子束的穿透水平比拟低〔散射水平强〕,因此用于 TEM分析的样品厚度 要非常薄,根据样品的原子序数大小不同,一般在 5?500nm之间.要制备这样 薄的样品必须通过一些特殊的方法.
>复型技术
护化学I*光
>舸抛光法
>解體和趣薄切片
>多层膜祥品的载面样品制备方法
>粉末样品的包埋法
> FIB 〔豎焦离子束〕方袪〔Focusing Ian Bean〕
■电饒样品制备的
拝品制
拝品制馆对于获得TSSmffiJ电子显8J
显至关重要的.
■对于从事电子長微学研顽科技工作新不仅要了解和拿1E电後的结构和工 作匱理,而且应该拿握样品制笛船基專技术.
■电锻
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