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半导体物理器件原理(期末试题大纲)
指导老师:建萍
一、简答题(共 6 题,每题 4 分)。
代表试卷已出的题目
1、耗尽区:半导体部净正电荷与净负电荷区域,因为它不存在任何
可动的电荷,为耗尽区(空间电荷区的另一种称呼)。
2、势垒电容:由于耗尽区的正负电荷在空间上分离而具有的电容充
放电效应,即反偏 Fpn 结的电容。
3、Pn结击穿:在特定的反偏电压下,反偏电流迅速增大的现象。
4、欧姆接触:金属半导体接触电阻很低,且在结两边都能形成电流
的接触。
5、饱和电压:栅结耗尽层在漏端刚好夹断时所加的漏源电压。
6、阈值电压:达到阈值反型点所需的栅压。
7、基区宽度调制效应:随 C-E 结电压或 C-B 结电压的变化,中性基
区宽度的变化。
8、截止频率:共发射极电流增益的幅值为 1 时的频率。
9、厄利效应:基带宽度调制的另一种称呼(晶体管有效基区宽度随
集电结偏置电压的变化而变化的一种现象)
10、隧道效应:粒子穿透薄层势垒的量子力学现象。
11、爱因斯坦关系:扩散系数和迁移率的关系:
12、扩散电容:正偏 pn 结由于少子的存储效应而形成的电容。
13、空间电荷区:冶金结两侧由于 n 区施主电离和 p 区受主电离而形
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成的带净正电荷与净负电荷的区域。
14、单边突变结:冶金结的一侧的掺杂浓度远大于另一侧的掺杂浓度
的 pn 结。
15、界面态:氧化层 -- 半导体界面处禁带宽度中允许的电子能态。
16、平带电压: 平带条件发生时所加的栅压, 此时在氧化层下面的半
导体中没有空间电荷区。
17、阈值反型点:反型电荷密度等于掺杂浓度时的情形。
18、表面散射: 当载流子在源极和源漏极漂移时, 氧化层 -- 半导体界
面处载流子的电场吸引作用和库伦排斥作用。
19、雪崩击穿: 由雪崩倍增效应引起的反向电流的急剧增大, 称为雪
崩击穿。
20、建电场: n 区和 p 区的净正电荷和负电荷在冶金结附近感生出的
电场叫建电场,方向由正电荷区指向负电荷区, 就是由 n 区指向 p 区。
21、齐纳击穿:在重掺杂 pn 结,反偏条件下结两侧的导带与价带离
得非常近,以至于电子可以由 p 区的价带直接隧穿到 n 区的导带的现
象。
22、大注入效应: 大注入下, 晶体管产生三种物理现象, 既三个效应,
分别称为:( 1)基区电导调制效应;( 2)有效基区扩展效应; (3)
发射结电流集边效应。 它们都将造成晶体管电流放大系数的下降。 这
里将它们统称为大注入效应。
23、电流集边效应: 在大电流下, 基极的串联电阻上产生一个大的压
降,使得发射极由边缘到中心的电场减小, 从而电流密度从中心到边
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缘逐步增大, 出现了发射极电流在靠近基区的边缘逐渐增大, 此现象
称为发射极电流集边效应,或基区电阻自偏压效应。
24、基区运输因子: 共基极电流增益中的一个系数, 体现了中性基区
中载流子的复合(后面问答题出现了)
25、表面电场效应: 半导体中的电导被垂直于半导体表面电场调制的
现象。
26、
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