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电子厂房高纯气体工艺与施工工程 第 1 页 共 40 页 前言 u近10年来,随着更复杂、更密集的大规模和超大规模集成电路的生产,对高纯 气体洁 度的要求,已不亚于对纯度和干燥度的要求,凡工艺气体,无一不对其 中的粒子提出限制.因此,对于高纯气体,纯度、干燥度、洁 度是三项重要的 标度.由于高纯度气体的使用地点、性质、工况(如温度、压力等)都不完全 一致,所以,如何确定高纯气体的 “三度”(纯度、干燥度、洁 度），还没有 一个严格而明确的概念.     对于纯度和干燥度的控制,我国CBJ73—84 《洁净厂房设计规范》中指出 , “高纯气体系指纯度大于或等于99.9995%,含水量小于5ppm气体.” 日本把微电子生产中所采用的气体,按其不同的品位,具体分为下列几个不同 的档次: 第 2 页 共 40 页 • 超高纯气体