晶体组织受控生长的cvd氧化铝涂层的沉积、显微结构和特性(下).docVIP

晶体组织受控生长的CVD氧化铝涂层的沉积、显微结构和特性(下) 表4 实验用涂层A～E的晶体组织系数hkil涂层A涂层B涂层C涂层D涂层E10121.015.480.360.540.9210140.640.0637.20.922.5711201.780.040.401.610.9911231.170.150.180.090.6411260.480.251.130.010.6130300.920.030.222.830.273 结果与讨论一般描述 实验用涂层A～D的SEM剖面和表面图像分别如图2～5所示，其XRD衍射图谱分别如图6a～6d所示。根据公式(1)计算得出的Al2O3涂层的晶体组织系数列于表4。 (a)带界面的SEM剖面图像，箭头所指处表示晶界上的多孔性 (b)SEM表面图像图2 实验用涂层A (a)SEM剖面图像 (b)SEM表面图像图3 实验用涂层B (a)SEM剖面图像 (b)SEM表面图像图4 实验用涂层C (a)SEM剖面图像 (b)SEM表面图像图5 实验用涂层D在未进行任何成核处理的条件下沉积的Al2O3涂层(涂层A)是由较大的、几乎是等轴的晶粒组成。涂层剖面的SEM图像证实在晶粒边界存在大量小孔(图2a)。虽然这种涂层主要由a-Al2O3组成，但XRD显示也存在由k-Al2O3引起的衍射峰(图6a)。这个a-Al2O3相显示，与其它实验用a-Al2O3涂层相