离子束多层膜制备技术和应用.docVIP

离子束多层膜制备技术和应用 一、前言 在材料表面工程中主要的研究目的是探索和研制新的工艺表面。所谓工艺表面是指材料表面对加工工艺过程、工艺方法和环境都十分敏感的表面。用不同加工工艺、工艺方法和热处理手段即可得到具有多种多样特性的工艺表面，以适应各个研究领域和生产中不断增长着的特殊需要。不同加工工艺将引起材料表面成分、微结构、形貌和特性诸方面不同的变化。而加工气氛则常常引起表面化学特性的变化，如氧化物、氮化物和氢化物的形成、基体中某些成分的富集和消耗等。一般来说表而区存在着品格紊乱、品格缺陷密度大、表面应力和沉积物存在，以及多孔性和微裂纹等现象。实际表面这些缺陷的出现会严重地影响工艺表面的特性。最合适的加工方法是离子束加工，这种加工工艺能有效地改变表面成分、微结构，并降低表面各种缺陷，以改善表面特性，从而得到特性优良的工艺表面。 二、离子注入的特点和局限性 1．离子注入的特点 (1)注入的元素和添加的元素可以任意选取。 (2)注入或添加元素时不受温度的限制，可在高温、低温和室温下进行。 (3)注入和添加到基体中的原子不受基体固溶度的限制，不受扩散系数和化合结合力的影响。 (4)可精确控制掺杂数量和掺杂深度。可精确地控制注入的电荷量，因此可精确控制掺杂浓度。掺杂深度可用控制注入束的能量的高低来实现。 (5)离子注入横向扩散可忽略，深度均匀。 (6)注入掺杂大面积均匀性好。 (7)掺杂杂质纯度高。纯度可以达到99％以上。 (8)束流强度可达到5～50mA的金属和氮离子束，提高了注入效率，适于工业生产。 (9)适用于各种固体材料和粉末材料改性要求，如半导体、晶态、非晶态金属和非金属材料等。 (10)直接离子注入不改变工件尺寸，特别适合于精密机械零件的表面处理，如航空、航天等。 (11)离子束增强沉积则可获得大于1μm厚的改性层和超硬层，更适于石油、化工等。 2．局限性 (1)常规离子注入深度很浅，在能量范围为40～500keV时，穿入深度 (2)设备复杂。主要包括真空系统、旋转靶室、离子源和高压加速，分析、偏转扫描、复杂的加工参数检测系统和全自动计算机控制系统，因此设备成本高。 (3)技术难度大，它所涉及的技术问题复杂，如离子碰撞和能量损失问题。 (4)由于离子的表面溅射效应，使较重的离子注入很难得到高浓度掺杂。由此可见，离子注入有许多优点是其他技术无法得到的，因此这项技术才独树一帜，取得了许多重要应用成果。但是离子注入所引起薄膜改性层薄，则限制了这种技术的发展，因此取离子注入精确可控和沉积技术可得到厚的改性层的优点，用离子注入与离子束沉积相结合来改善薄膜与基体粘合特性，改变沉积膜的结构、成分和增加沉积膜的密度等，来改善沉积膜的质量，并且可以得到厚度数微米的工艺薄膜。 三、离子注入过渡层和梯度膜的制备 1．离子注入表面清洗与过渡层制备 在沉积金属和各种超硬膜时，由于热膨胀系数的差异，往往因界面应力过大而引起薄膜的脱落，因此得不到厚的镀层。沉积膜与基体粘合的最大障碍是表面的清洁程度，首先用严格的清洁处理手段去除油和各种有机物的污染，其次再用离子束轰击去除碳吸附层a和基体自然氧化层b，当注入量为3×1016/cm2，表面碳吸附层和自然氧化层仍然未去除掉，直到6×1016/cm2时，才能去除a口b层。再增大注入量则可在基体内形成无序层d和Ti-Fe固溶体层，如图1所示。图1a为注入前(其中a为碳吸附层，b为自然氧化层)；图1b为Ti注入(3×1016/cm2)；图1c为6×1016/cm2注入(a和b层已经去除)；图1d为高于6×1016/cm2注入。这样在表面形成了Ti浓度缓变层c，若在注入层表面沉积Ti膜，可以出现热膨胀系数从基体到膜的缓变层，结果降低了膜与基体的界面应力，增强了膜的粘合力。 图1 Ti注入铁表而态随注入量的变化 2．DLC膜和其他超硬膜梯度层的制备 为了降低沉积层与基体之间的应力，最好的方法之一是在基体上制备浓度梯度和结构梯度的薄膜。其原子结构如图2所示。在Ti基体上先注入较高能量和较低注入量(65keV，20min)的C离子，然后再注入较低能量和较高注入量(45keV，4Omin)的C离子，结果出现了如图2的原子浓度分布示意图，在此基础上用C离子束增强沉积(溅射能量为10～15keV，30min)沉积金刚石膜，最后用常规法沉积DLC膜，其原子分布见图2。从图2可见，没有出现界而。从基体到表面方向来看，Ti原子浓度从100％下降到0，而C原子浓度从0增加到100％，热膨胀系数下降，结果热应力得到释放。