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2.3 非理想效应 2.3 非理想效应
2.3.1 基区宽度调变效应
在共发射极电路正向有源模式下，对于给定的基极电流，
在前面的讨论中，我们所考虑的晶体管是均匀 集电极电流应当与集电极电压无关。左图中的曲线斜率应
掺杂、小注入、发射区和基区宽度恒定、禁带 为零。实际中（右图）的电流却随集电极电压的增加而增
宽度为定值、电流密度为均匀值。如果这些情 加。这种现象起因于晶体管的基区宽度调变效应
况中的任何一个不满足，晶体管的特性就会与
我们得到的理想情况不一致。
1
α
T 1 ⎛x ⎞2
2.3 非理想效应 2.3 非理想效应 1+ 2 ⎜⎜LB ⎠⎟⎟
⎝ B
2.3.1 基区宽度调变效应 2.3.1 基区宽度调变效应
基区有效宽度随集电结偏压变化的现象称为基区宽度调变效应
前面的讨论中默认有效基区宽 （厄尔利效应）
x x 厄尔利电压V 反映了基区宽度调变效应对电流放大系数的影响
度 B 是不变的，实际上 B 是 EA
α I
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