泓域咨询/关于成立高性能靶材公司商业计划书
关于成立高性能靶材公司
商业计划书
xx(集团)有限公司
报告说明
提高靶材利用率一直是靶材制备行业研究的热点和难点。在溅射过程中,ITO平面靶材表面会形成环形磁场,并在环形表面进行刻蚀,这使得环形区域的中心部分无法被溅射,导致平面靶材的利用率较低,目前ITO平面靶材的靶坯利用率一般不超过40%。ITO旋转靶材相较平面靶材在利用率上有较大提升,旋转靶材围绕固定的条状磁铁组件进行旋转,使得整个靶面都可以被均匀刻蚀,提高了靶材的利用率,目前ITO旋转靶材的靶坯利用率可达70%以上。提高ITO靶材利用率有助于提高生产效率,降低生产成本,因此成为
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