年产xx吨金属靶材项目策划书（参考模板）.docx

泓域咨询/年产xx吨金属靶材项目策划书 报告说明 溅射靶材是溅射法制备薄膜的主要材料之一。溅射工艺是制备电子薄膜的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集而形成高速离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 根据谨慎财务估算，项目总投资28717.82万元，其中：建设投资22799.07万元，占项目总投资的79.39%；建设期利息277.44万元，占项目总投资的0.97%；流动资金5641.31万元，占项目总投资的19.64%。 项目正常运营每年营业收入62300