陕西科技大学材料学院无机合成无机合成.pptxVIP

会计学;第十四章　　　化学气相沉积 （1）.化学气相沉积法简称CVD法 用来：提纯物质、研制新晶体、沉积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。 这些材料：可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是某些二元(如GaAs)或多元(如GaAs1－ｘPｘ)的化合物，它们的物理特性可以通过气相掺杂的沉积过程精确控制。 　 化学气相沉积已成为无机合成化学的一个新领域。;（2）.化学气相沉积：是利用气态物质在一固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。 （3）.化学气相沉积所用的反应体???要符合下面一些基本要求 1)能够形成所需要的材料沉积层或材料层的组合，其它反应产物均易挥发。 2)反应剂在室温下最好是气态，或在不太高的温度下有相当的蒸气压，且容易获得高纯品。 3)沉积装置简单，操作方便，工艺上具有重现性，适于批量生产，成本低廉。;根据这些要求，在实际应用上形成了许多种反应体系和相应的技术： 化学气相沉积法有高压化学气相沉积法(ＨＰ—CVD)、低压化学气相沉积法(ＬＰ—CVD)、等离子化学气相沉积法(P—CVD)、激光化学气相沉积法(L—CVD)、金属有机化合物气相沉积法(MO—CVD)、高温化学气相沉积法(HT—CVD)、中温化学气相沉积法(MT—CVD)、低温化学气相沉积法(ＬＴ—CVD)。 以上主要区别：加热源不同； 　　　　所选用的原料不同，反