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Onyx 中压紫外线-AOP 高级氧化技术
中压高强度 UV 灯是在近些年研制出来的。它在 600-800℃温度和 104-106Pa
压
力下工作,产生多色光照射。中压紫外灯的波谱范围广,大约在 180nm- 480nm
之间。功率较高,可达 1000-1500W 。
中压紫外线-AOP 高级氧化技术能有效地将细菌病毒杀灭,并且病菌在其照射
下
的光复活率要低于低压系统,从而保证了灭菌效果。此外,该技术对饮用水中危害人体健康的微量有机物也有较好的处理效果。
在处理过程中,高性能中压紫外灯放射出高能量的紫外线,通过一个石英晶体管进入水体中。同时,加入到饮用水中的氧化剂 H2O2,在紫外线的照射下被激
活,产生一种氧化性极强的氧化性基团,称为羟基自由基(?OH),其产生过程如下所示:
H2O2 hλ→2?OH
在反应式中羟基自由基?OH,量子产率为 1,即 1 爱因斯坦的被吸收的紫外光
子
可以产生 1 摩尔的羟基自由基。?OH 是目前所知的最强的氧化剂之一(在酸性溶液中,电位是 E°= 2.7V),大量的羟基自由基与水中的溶解性污染物发生强烈的氧化反应,最终可将有机污染物进行完全氧化或矿化,在很短的时间内就可以达到理想的处理效果[4-5]。
中压紫外线-AOP 高级氧化技术的成功主要是由于在紫外线的辐射下,羟基自
由
基与有机污染物的氧化反应速度有了大幅提高,大约是各种氧化剂单独氧化效果的 1,000-1,000,000 倍。研究表明,UV/ H2O2 能有效降解去除水中低浓度的多种用脂肪烃和芳香烃有机污染物,也能使水中的三卤甲烷、农药、杀虫剂、三氯乙烯,内分泌干扰物等化学污染物的浓度下降 90%以上。该系统的工艺设计如下图所示:
安力斯公司开发了中压紫外线-AOP 高级氧化技术(1500W 中压紫外灯 H2O2 系统),并将其应用在相对处理难度更高的污废水处理中。实验表明,该系统对制药厂废水、印染厂废水、电化厂废水、污水厂出水处理效果良好,COD 去除率分别达到 64.1%、75.8%、63%、56.3%。其中,经过处理后的污水厂出水可达到一级B 的水平,吨水处理成本在 0.16 元左右(仅考虑电费和药剂投加费用)。若将该系统用于饮用水处理中,吨水处理成本将再降低 50%。
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