泓域咨询/吉安薄膜设备项目可行性研究报告
报告说明
物理气相沉积(PVD):利用蒸发或溅射,实现原子从源物质到沉底材料表面的物质转移,沉积形成薄膜。物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低压气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD具有成膜速率高、镀膜厚度及均匀性可控好、薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高等优点。
根据谨慎财务估算,项目总投资47938.84万元,其中:建设投资36671.85万元,占项目总投资的76.50%;建设期利息735.71万元,占项目总投资的1.53%;流动资金10531.2
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