三门峡薄膜沉积设备项目可行性研究报告【模板范本】.docx

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2022-07-21 发布于重庆
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三门峡薄膜沉积设备项目可行性研究报告【模板范本】.docx

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泓域咨询/三门峡薄膜沉积设备项目可行性研究报告报告说明随着制程推进和工艺升级，单位产能下设备需求将进一步增加。制程和工艺升级推动芯片复杂度提升，更复杂的结构需要更多的制造工序完成，各类设备的用量显著增加。以刻蚀环节为例，14nm制程所需使用的刻蚀步骤达到64次，7nm所需刻蚀步骤达140次，较14nm提升118%。设备用量方面，以中芯国际180nm8寸产线和90nm12寸产线所用到的薄膜沉积设备为例，每万片月产能所需的CVD设备、PVD设备分别增加3倍和4倍左右。根据谨慎财务估算，项目总投资27118.06万元，其中：建设投资20847.40万元，占项目总投资的76.88%；建设期利息2