集成电路先进制造技术进展与趋势.docx

引言 集成电路是电子产业和信息社会的支柱和硬件基础。金属-氧化物-半导体场效应晶体管（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET）是构成当前集成电路的最基本器件结构,当前的绝大多数集成电路都以互补式金属-氧化物-半导体（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor, CMOS）器件作为基础单元。MOSFET器件进入量产以来,尺寸微缩一直是集成电路性能提升的最重要手段[1,2,3]。 通过表1可以看出,当MOSFET器件的尺寸按照等电场微缩（即器件沟道内的电场维持恒定值）的方式缩小至1/k时