安庆光刻机项目可行性研究报告.docx

泓域咨询/安庆光刻机项目可行性研究报告  安庆光刻机项目 可行性研究报告 xx有限责任公司  报告说明 摩尔定律推动产业发展，设备行业壁垒将持续提升。根据摩尔定律演进，每隔18-24个月芯片性能将提升一倍。先进制程IC产能具有强劲的增长势头，根据ICInsights预测，2024年先进制程（10nm）的IC产能预计增长并在全球产能占比提升至30%。每更新一代工艺制程，则需更新一代更为先进的制程设备，更加精密的制程带来半导体设备难度直线上升，行业壁垒不断提高。 根据谨慎财务估算，项目总投资20620.61万元，其中：建设投资16744.84万元，占项目总投资的81.20%；建设期利息22