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HBES玻璃制作多阶相位构造灰阶掩模 [纲要]多阶相位器件是一类拥有极高衍射效率的光学 元件，主要应用于光互连、光通信、平面光学、折衍混淆光 学等方面。本文采用电子束直写曝光的方法，利用HEBS玻璃制作变灰阶掩模，实验测得掩模透过率误差不超过0.7%，制得菲涅尔透镜台阶高度误差不超过16%，证实了该方法的实用性和可靠性。 [重点词]HEBS玻璃灰阶掩模电子束直写多阶相位结 构 [中图分类号]TN305.7[文件表记码]A[文章编 号]1009-5349（2015）12-0095-01 目前所应用的多阶相位菲涅尔透镜制作的方法主假如 鉴于多次掩模的刻蚀法和薄膜沉积法，由于在制作过程需多 次使用掩模，由此在浮雕构造中引入了多次瞄准套刻所产生 的误差，很大程度上影响了透镜的衍射效率。本文研究在 HEBS玻璃上制作包含多组多阶位相构造信息的变灰阶掩 模，这样能够一次达成利用掩模、曝光、薄膜沉积制作多阶 相位构造，能极大地提高光刻精度。 一、HEBS玻璃掩模透过率与曝光量关系 HEBS（HighEnergyBeamSensitive）玻璃对电子束作用 极其敏感，玻璃的表面平均地覆有一层由因卤化物及相应添 加剂组成的离子互换层，其厚度大概在3微米左右，能够产 生500个以上的灰阶。为了能够透过紫外光及更短波长的光， 可在离子互换层中增添光敏抑制剂，增加  HEBS  玻璃的能量 带隙，进