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2.1 CMOS集成电路;P阱CMOS工艺;P阱CMOS工艺;P阱CMOS工艺;N阱CMOS工艺;N阱CMOS工艺;N阱CMOS芯片剖面示意图;双阱CMOS工艺;双阱CMOS工艺;双阱CMOS工艺;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;PowerPoint 演示文稿;MOS工艺的自对准结构;自对准工艺 示意图;自对准工艺;2.2 双极型集成电路的基本;双极型集成电路基本制造工艺步骤;双极型集成电路基本制造工艺步骤;第一次光刻——N+隐埋层扩散孔;双极型集成电路基本制造工艺步骤;双极型集成电路基本制造工艺步骤;第二次光刻——P+隔离扩散孔光;双极型集成电路的基本制造工艺步;双极型集成电路的基本制造工艺步;第四次光刻——N+发射区扩散孔;双极型集成电路的基本制造工艺步;双极型集成电路的基本制造工艺步;3.3 BiCMOS工艺;BiCMOS工艺分类;