lcd共享cell process-vac以編輯母片文字樣式.pptxVIP

Cell Line Process Vacuum Chamber Agenda 製程目的與原理 製程設備構成(各部功能) 製程精度與能力(設備管理項目) 製程參數(製程評價項目) 管制項目(PQCMQC) 製程材料或治具 製程不良項目及產生原因 製程目的與原理 製程目的 將經過液晶滴下程序的TFT基板與CF基板於真空狀態下，對位後壓合，並以spot UV固定部分框膠，以防止貼合後至UV Curing製程前，基板因搬移過程而使對位精度偏移 製程原理 利用靜電吸著的方式夾持基板,再以一壓力施於完成對位的基板上,藉此將TFT與CF基板固定 製程設備構成(1) LC dispenser UV Cure Vacuum chamber Mis-Alignment Visual Inspection TFT CF 製程設備構成(2) Spot UV Source Weight Balance : to cancel the weight of stage and ES chuck G-ESC : to hold glasses in vacuum X-Y- Table (U,V,W aligned) Align CCD Camera Linear Guide Servo Motor Bellows Chamber O-ring Frame