薄膜制备的真空技术基础.pptVIP

　激光刻蚀性能 　薄膜电池在制作过程中，需要将表面划分成多个长条状的电池组，这些电池组被串联起来用以提高输出能效。因此，TCO玻璃在镀半导体膜之前，必须要对表面的导电膜进行刻划，被刻蚀掉的部分必须完全除去氧化物导电膜层，以保持绝缘。刻蚀方法目前有化学刻蚀和激光刻蚀两种，但由于刻蚀的线条要求很细，一般为几十微米的宽度，而激光刻蚀具有沟槽均匀，剔除干净，生产效率快的特点。 薄膜制备的真空技术基础 * 1.3.6 溅射离子泵★ 工作原理： 高压阴极发射出的高速电子与残余气体分子碰撞引起电离放电，电离的气体分子高速撞击Ti阴极溅射出大量Ti原子。活性很高的Ti原子以吸附或化学反应的形式捕获大量气体分子并使其在泵体内沉积下来，实现无油高真空环境。 特点：气体活性大，抽速大；寿命有限。 极限真空度：10-8 Pa。 Ti升华泵 薄膜制备的真空技术基础 * ★ ★ ★ Back 薄膜制备的真空技术基础 * 1.4 真空的测量 真空测量：用特定的仪器和装置，对某一特定空间内真空高低的测定。（真空计、规管） 绝对真空计：通过测定物理参数直接获得气体压强的真空计（U型真空计、压缩式真空计等） 特点：测量比较准确，气压低时测量极其困难 相对真空计：通过测量与压强有关的物理量，并与绝对真空计比较后得到压强值的真空计（放电真空计、热传导真空计、电离真空计等） 特点：