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泓域咨询/内江半导体材料项目商业计划书
内江半导体材料项目
商业计划书
xxx集团有限公司
报告说明
在工艺制程上,先进制程的半导体掩膜版占比也越来越高。根据SEMI数据,45nm及以下制程2017年占比仅为13%,到2018年则提升至31%,45nm及以下制程占比稳步提升。而整体来看,130nm制程占比54%,仍然是目前主流制程;28-90nm制程占比33%,展望未来,先进制程掩膜版占比有望持续提升。总体来说,中国掩膜版厂商产品整体偏中低端,按经营模式可分为3类:第一类是科研院所,包括中科院半导体所、微电子所、中电科13/55/47所等;第二类是独立的掩膜版制造厂商,主要有清溢光电
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