有机合成中的保护基.pptxVIP

会计学;选择保护基的原则：;羟基的保护基;酯类保护基的除去(cleavage) 碱性条件下水解， 水解能力： t-BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH2CO 常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBH(OEt)3 ;ClCH2CO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液，NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。;第5页/共30页;;TMS ether：TMSCl or TMSOTf in pyridine, NEt3, i-Pr2NEt, imidazole, DBU;TES ether：TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6-dimethylpyridine(2,6-lutidine);TBDMS ether：TBDMSCl / imid. / DMF; TBDMSOTf / 2,6-lutidine;TBDPS ether：TBDPSCl / imidazole / DMF, catalyst: DMAP, solvent: CH2Cl2;