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* * * 在截取锥之后，正离子之间的排斥作用会使得整个离子束发散。其中质量较大、动能较大的正离子集中在离子束中央区域，而质量较小、动能较小的正离子则被排斥到边缘区域。 为了解决这个问题，必须使用离子透镜组对他们进行聚焦。所谓离子透镜实际上是一组电极，在离子束通过的地方形成具有双曲线特征的电势等高线。从而实现正离子的聚焦和偏转的功能。而电子则在此过程中被发散。右图中前面三组透镜用于离子束的聚焦，后面两组用于离子束的偏转。而与离子束一起过来的光子和中性分子被金属板挡住后，由与质谱相连的第三级真空系统抽走。这样进入质量分析器的就只有正离子。 * * * * 雾化器原理：高速气流在毛细管尖形成负压，带动样品溶液从管尖喷出雾化为小液滴。 雾室原理：液滴与雾室内壁碰撞，较大的液滴聚集为废液流出；较小的液滴分散为气溶胶 进入ICP * 样品本身的性质 ICP的电离程度 离子透镜聚焦 质谱的质量歧视效应及多原子离子等的干扰 激光烧蚀法——原位(in situ)探测技术 仪器原理 优点：原位无损分析 重现性好，线性范围宽 适用样品类型多（钢铁、 陶瓷、矿物、核材料、食品） 缺点：检测限较差 基体干扰严重 定量校准方法不理想 D. GuntherU et. Al., Spectrochimica Acta Part B 54 1999 381-409 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第31页。 5. 质谱图及其干扰 ICP-MS的图谱非常简单，容易解析和解释。但是也不可避免的存在相应的干扰问题，主要包括光谱干扰和基体效应两类。 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第32页。 光谱干扰： 当等离子体中离子种类与分析物离子具有相同的质荷比，即产生光谱干扰。 光谱干扰有四种 同质量类型离子 多原子或加和离子 氧化物和氢氧化物离子 仪器和试样制备所引起的干扰 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第33页。 同质量类型离子干扰 同质量类型离子干扰是指两种不同元素有几乎相同质量的同位素。对使用四极质谱计的原子质谱仪来说，同质量类指的是质量相差小于一个原于质量单位的同位素。使用高分辨率仪器时质量差可以更小些。周期表中多数元素都有同质量类型重叠的一个、二个甚至三个同位素。 如：铟有113In+和115In+两个稳定的同位素 前者与113Cd+重叠，后者与115Sn+重叠。 因为同质量重叠可以从丰度表上精确预计．此干扰的校正可以用适当的计算机软件进行。现在许多仪器已能自动进行这种校正。 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第34页。  多原子离子十扰 多原子离子(或分子离子)是ICPMS中干扰的主要来源。一般认为，多原子离子并不存在于等离子体本身中，而是在离子的引出过程中。由等离子体中的组分与基体或大气中的组分相互作用而形成。 氢和氧占等离子体中原子和离子总数的30％左右，余下的大部分是由ICP炬的氩气产生的。ICPMS的背景峰主要是由这些多原子离子结出的．它们有两组：以氧为基础质量较轻的—组和以氩为基础较重的一组，两组都包括含氢的分子离子。 例：16O2+干扰32S+ * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第35页。 氧化物和氢氧化物离子干扰 在ICPMS中，另—个重要的干扰因素是由分析物、基体组分、溶剂和等离子气体等形成的氧化物和氢氧化物，其中分析物和基体组分的这种干扰更为明显些。它们几乎都会在某种程度上形成MO+和MOH+离子，M表示分析物或基体组分元素，进而有可能产生与某些分析物离子峰相重叠的峰。 例如钛的5种天然同位素的氧化物 质量数分别为62、63、64、65和66， 干扰分析 62Ni + 、63Cu+、64Zn+、65Cu+和66Zn+ 氧化物的形成与许多实验条件有关，例如进样流速、射频能量、取样锥一分离锥间距、取样孔大小、等离子气体成分、氧和溶剂的去除效率等。调节这些条件可以解决些特定的氧化物和氢氧化物重叠问题。 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第36页。 仪器和试样制备所引起的干扰 等离子体气体通过采样锥和分离锥时，活泼性氧离子会从锥体镍板上溅射出镍离子。采取措施使等离子体的电位下降到低于镍的溅射闭值，可使此种效应减弱甚至消失。 痕量浓度水平上常出现与分析物无关的离子峰，例如在几个ng·mL-1的水平出现的铜和锌通常是存在于溶剂酸和去离子水中的杂质。因此，进行超纯分析时，必须使用超纯水和溶剂。最好用硝酸溶解固体试样，因为氮的电离电位高，其分子离子相当弱，很少有干扰。 * ICP-MS介绍全文共50页，当前为第37页。 基体效应： ICPMS