化学气相沉积技术论文.docVIP

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2022-12-03 发布于重庆
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化学气相沉积技术论文.doc

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化学气相沉积技术论文化学气相沉积技术论文【摘要】在制备难熔金属领域上，未来将会寻求更加低的沉积温度，追求低能耗；寻求难熔金属合金的制备；寻求性能更加优异的难熔金属薄膜。在制备新材料中，未来将会追求对于废旧材料的循环利用形成具有新的优异性能的材料，同时具有耐高温，耐腐蚀，耐氧化等性能的符合材料。 1、化学沉积技术的发展现代CVD技术开始于20世纪50年代，并主要用于刀的涂层。到20世纪60至70年代以来，CVD技术广泛用于半导体和集成电路技术。到20世纪70年代，苏联的Deryagin Spitsyn和Fedoseev引入了原子氢，开创了激活低压CVD金刚石薄膜生长技术，这成为了80年代