光学薄膜的结构与缺陷.pptxVIP

光学薄膜的结构与缺陷会计学第1页/共51页薄膜结构决定性能 ★ 薄膜的结构 ★ 薄膜缺陷 ★ 薄膜结构和组分的分析方法第2页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构★ 薄膜的结构薄膜结构：组织结构、晶体结构、表面结构 薄膜的组织结构 薄膜的组织结构是指薄膜的结晶形态，包括无定形结构、多晶结构、纤维结构、单晶结构。 无定形结构（非晶或玻璃态结构） 结构特性：近程有序、长程无序； 不具备晶体的性质； 亚稳态第3页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构晶态 非晶态第4页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构替代无序 振动无序第5页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构晶体的特性：具有固定的熔点；各向异性；特定的几何外形。形成无定形结构的条件：降低吸附原子的表面扩散速率。降低基片温度；引入反应气体；掺杂。 常温稳定性。第6页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 多晶结构 多晶结构薄膜是指由若干大小不等，晶向不等的晶粒所构成的结构。第7页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构多晶结构薄膜存在晶界（晶粒间界）晶界上存在晶格畸变；界面能：界面移动造成晶粒长大和界面平直化；空位源：杂质富集；界面特性影响多晶薄膜与输运相关的性质。第8页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 纤维结构（织构）概念：纤维结构薄膜是指晶粒具有择优取向的薄膜。单重纤维结构（一个方向）双重纤维结构（两个方向）择优取向可以发生在薄膜生长的各个阶段。 如果吸附原子具有较高的表面扩散速率，则晶粒的择优取向可以发生在薄膜形成的初期。 如果吸附原子的表面扩散速率较小，初始膜层不会出现则优取向。 第9页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 多晶薄膜织构形成机理比较复杂，比体材料的织构问题复杂的多，研究工作不够深入。一般受到如下因素影响： 基片性质 非晶态基片：fcc结构薄膜则优方向[111]；hcp结构薄膜的则优方向[0001]，bcc结构薄膜则优方向[110]。 单晶基片也有织构现象：硅基片沉积AlN，则优方向c轴。 基片本身的织构诱导薄膜形成织构。第10页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 基片温度 基片温度影响到达基片成膜原子在基片表面的粘附系数和迁移率。 低温基片有利于原子表面冷凝而形成非晶态结构。提高基片温度有利于原子规则排列，形成取向良好的薄膜。 例：MOCVD在（100）硅片上沉积ZnO薄膜， TS=160℃时，则优方向[1010] TS=325℃时，则优方向[1010]和[0001] TS=400℃时，则优方向[0001]第11页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 沉积速率 一般来说，沉积速率愈大，薄膜中晶粒的则优取向愈弱。 沉积速率与基片温度是相互制约的两个因素。要得到则优趋向良好的薄膜，两者之间有一个最佳匹配范围。 沉积速率增加时，基片温度也要相应增加，否则先到达基片的粒子由于迁移率过低影响定向排列。第12页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 气体组分和压强 压强不同，基片表面上原子吸附系数和表面迁移率不同； 活性反应气体的分压影响成膜速率和不同晶面的表面能，因而影响则优取向。 例：离子镀膜TiN PN2-2 Pa时，几乎所有晶粒按[111]方向取向； PN2较低时，出现较强的[111]方向取向；第13页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 薄膜厚度 当薄膜较厚时，在原子的入射方向存在则优取向。 例：在非晶态基片上沉积具有面心立方晶格的金属薄膜。 在薄膜的起始阶段，呈[111]则优方向；当薄膜很厚时变为[110]织构。 入射粒子流方向 外电场方向第14页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构第15页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 单晶结构 单晶结构薄膜通常用外延技术形成。 形成条件：吸附原子具有较高的表面扩散速率；晶格匹配；基片表面清洁、光滑、化学稳定。 晶态和非晶态的转变第16页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构第17页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 薄膜的晶体结构 多数情况下，薄膜中晶粒的晶格结构与体材料相同，只是晶粒取向和晶粒尺寸不同，晶格常数也不同。原因如下： 薄膜材料本身的晶格常数与基片材料晶格常数不匹配； 薄膜中有较大的内应力和表面张力。第18页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 表面结构 薄膜表面形成过程 由热力学能量理论，薄膜表面平化 晶粒的各向异性生长，薄膜表面粗化 低温基片上，薄膜形成多孔结构BA第19页/共51页薄膜的结构和缺陷——薄膜的结构 薄膜表面结构与显微结构有关