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本实用新型公开一种单面电镀设备,涉及电镀技术领域,以保证单面电镀正常进行的前提下,降低工件污染电镀液的可能性。所述单面电镀设备包括:电镀装置、导电构件以及转动的设在电镀槽内的移液构件。该电镀装置包括电源以及用于容纳电镀液的电镀槽。移液构件转动的设在电镀槽内,用于将电镀槽内容纳的电镀液转移至工件电镀面。当单面电镀设备处在电镀状态时,移液构件和导电构件均与工件电镀面接触,所述导电构件与所述电源电连接,移液构件部分区域位于电镀液的液面以下,导电构件接触工件电镀面的表面和导电构件位于电镀液的液面以上。本
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212293824 U
(45)授权公告日 2021.01.05
(21)申请号 202020214106.2 C25D 7/06 (2006.01)
(22)申请日 20
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