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- 2023-01-30 发布于四川
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本实用新型涉及光学薄膜技术领域,具体涉及一种红外窗口增透保护结构,该结构包括增透层、基底和保护层,基底的一侧附着有增透层,另一侧附着有保护层;增透层自基底起依次包括第一锗层、第一硫化锌层、第二锗层和第二硫化锌层;保护层自基底起依次包括锗砷硒层和类金刚石层,本实用新型提供了一种红外窗口增透保护结构,锗砷硒层作为类金刚石层和基底层之间唯一的中间层,一方面增加了窗口的光学透过性,另一方面减小了膜层间的应力,解决了无法在硫族材料上沉积类金刚石膜的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212293729 U
(45)授权公告日 2021.01.05
(21)申请号 202022193358.4 C23C 28/00 (2006.01)
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