真空蒸膜设备.pdfVIP

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2023-01-31 发布于四川
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真空蒸膜设备.pdf

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本实用新型公开一种真空蒸膜设备，包括真空室；蒸发源；第一晶振座；第一晶振；第一传感器；前反馈控制模块；基片；基片挡板；第一驱动装置；第二晶振座；第二晶振；第二传感器；后反馈控制模块；蒸发源挡板；第二驱动装置；总控制模块，用于将蒸发速率与预定蒸发速率比较得到第一比较结果并基于第一比较结果向前反馈控制模块发出控制第二驱动装置驱动蒸发源挡板沿与材料在气相时向第一晶振、基片流动的路径相交的轨迹往复移动和将该实际测量值与预定厚度值比较得到第二比较结果并基于第二比较结果向后反馈控制模块发出控制第一驱动装置驱

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212316238 U (45)授权公告日 2021.01.08 (21)申请号 202020239745.4 (22)申请日 2020.03.03 (73)专利权人成都晶砂科技有限公司