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一种角度可调的磁控溅射基板组件及磁控溅射设备.pdfVIP

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  • 2023-02-04 发布于四川
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一种角度可调的磁控溅射基板组件及磁控溅射设备.pdf

    本实用新型公开了一种角度可调的磁控溅射基板组件及磁控溅射设备，本方案巧妙性通过在基板外侧连接支撑环，令支撑环与磁控溅射设备的载物组件连接，而支撑环和基板之间通过连接件进行连接，使基板与支撑环具有相互配合的第一状态和第二状态；第一状态时，所述基板可在支撑环内活动翻转，第二状态时，所述基板通过连接组件约束固定于支撑环内，操作人员可以根据实际需要来调整基板和支撑环的夹角，然后通过连接件进行锁定后，再装载入磁控溅射设备中进行加工，以此来加工出不同溅射角度的薄膜产品或薄膜试样，本方案组件不仅实施方便且组件

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218404377 U (45)授权公告日 2023.01.31 (21)申请号 202222427184.2 (22)申请日 2022.09.14 (73)专利权人 厦门大学 地址 361005

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