一种等离子体增强化学气相沉积设备.pdfVIP

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2023-02-09 发布于四川
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一种等离子体增强化学气相沉积设备.pdf

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本实用新型提供一种等离子体增强化学气相沉积设备。本实用新型提供的等离子体增强化学气相沉积设备，包括反应腔，还包括设置在反应腔内的第一电极、第二电极和遮蔽框组件，第一电极的上表面具有承载区，待沉积薄膜的基板放置于承载区上，遮蔽框组件覆盖第一电极的位于基板外围的区域，且遮蔽框组件的内缘伸入至基板和第一电极之间，第二电极对应设置在第一电极的上方。本实用新型的等离子体增强化学气相沉积设备，能够减小成膜区域的局限性，满足产品的窄边框化发展需求。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212404278 U (45)授权公告日 2021.01.26 (21)申请号 202021171177.5 (22)申请日 2020.06.22 (73)专利权人成都中电熊猫显示科技有限公司