一种柔性类氧化硅薄膜生长装置.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约7.55千字
  • 约 8页
  • 2023-02-09 发布于北京
  • 举报
本实用新型公开了一种柔性类氧化硅薄膜生长装置,包括反应腔体和与反应腔体连接的气路系统、控制系统、真空系统和尾气处理系统;反应腔体内部悬空水平设置射频电极,射频电极连接射频电源的正极,反应腔体连接射频电源的负极;射频电极下方设置气体混匀器,反应腔体的顶盖内侧固定用于沉积薄膜的衬底,气体混匀器连接气路系统,反应腔体上开设气体出口一连接真空系统;气路系统包括六甲基硅氧烷储罐、氮气储罐、氧气储罐、和四氟化碳储罐,每个储罐分别通过分支管路连接反应腔体前端的主管路,主管路连接气体混匀器。本实用新型所公开的装

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212404273 U (45)授权公告日 2021.01.26 (21)申请号 202021309048.8 (22)申请日 2020.07.06 (73)专利权人 山东大学 地址 2

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档