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关于半导体行业含氟废水的处理策略探讨 汪轶杰 (中芯国际集成电路制造 (深圳)有限公司 广东深圳 518118) 摘 要 ：随着科技的发展 ，中国也逐渐开始转 向电子 由上述可知，使用化学沉淀法进行含氟废水的处理原理可以 整机 产品生产 ．半导体行业 的加入更是加快 了中国转 向的 用以下化学方程式来体现： 步伐 ．让 中国获得 了大量 的需求和机遇 ．半导体行业的企 Ca2++2F一=CaF2 业也开始大量在 中国建立生产基地。半导体行业在 中国迅 加入的CaC1：是过量的，在加入之前为了保证pH值为8左 速发展 的同时也给 中国带来 了新的环境 问题 。其 中半导体 右，因此还需要加入NaOH，然后加人絮凝剂，让形成的沉淀 CaF 行业生产的含氟废水对于环境的危害最为严重。本文首先 成为矾花，从而更加有利于分离。 分析半导体行业舍氟废水的产生 ．然后概述舍氟废水的处 加入絮凝剂后，含氟废水会发生絮凝反应，之后，通过泥水分 理方法 ，最后探讨处理半导体行业含氟废水的有效策略。 离方法，含氟沉淀很快分离出来，被污泥泵抽到污泥浓缩池中，最 寄希望对我国半导体行业含氟废水的有效处理提供帮助。 后用压滤机压成泥饼 ，而分离出来的上清液则进入中和池，经过 关键词 ：半导体 ：含氟废水 ：处理 ：策略 再度监测后便可进行排放。检查的水质不合格的需要进行二次处 理，直到合格后方可排出。废水排放的形式为连续排放，每次排放 1半导体行业含氟废水的产生 量为480t／d。 通过上述的原理分析，本半导体企业在进行含氟废水的处理 半导体行业含氟废水的产生主要来 自半导体生产工艺流程 过程中，按照以下的除氟工艺流程来进行含氟废水的处理，如图1 中，半导体生产工艺不仅复杂，步骤也较为繁多，过程中使用的化 所示 学试剂也比较多样化 ，产生的特殊气味也是比较复杂的。一般来 说 ，主要的生产工序主要有 ：硅片的清洗、氧化或扩散 的过程、化 撇 绷 剩 学气相沉积过程、光刻、去胶、氢氟酸和氟化铵以及高纯水清洗的 干法刻蚀过程、湿法腐蚀、离子注入、金属化 、化学机械抛光 CMP、 检测等流程。在这些流程中，含氟废水主要来 自刻蚀工序中的氢 氟酸和氟化铵 ，主要存在的污染物有氟化物、磷酸、氨氮、SS、PH。 含氟废水对于人体危害极大，能够对人体粘膜、眼睛、上呼吸道以 图 1 氟化钙絮凝沉淀法除氟工艺流程 及皮肤组织等产生巨大的破坏，吸入会发生中毒 ，影响人体物质 该种方法 ，既能够让含氟废水 的中的氟离子得到有效 的 代谢，进而对人体各器官发生危害，最终致死。 清除，还能够有效解决 日常含氟废水处理后出现的水质不稳 2含氟废水的处理方法 定 ，药剂使用量不确定以及二次污染等问题，在工艺流程上也 我国半导体行业对于含氟废水的处理采用的方法一般有 ：化 比较简单 ，费用也 比较低 ，对于半导体行业 的除氟处理具有很 学沉淀法 、吸附法 、混凝沉降法、反渗透法 、离子交换法、共蒸馏 大的适用性。另外 ，采用氟化钙絮凝沉淀法处理含氟废水的同 法、电凝聚法以及液膜法等方法。在这些方法中，化学沉淀法是含 时，也能够除去废水 中大部分的磷 ，因此 ，该种方法可以进行 氟废水处理最为常用的方法 ，调节废水 pH值至碱性，然后投加钙 广泛的推广。 盐