原创力文档- 1、本文档共11页，其中可免费阅读6页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型公开了一种等离子体约束装置及等离子体处理装置，所述等离子体约束装置设置于等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间，包括：导电元件，所述导电元件设置有若干个通道，所述处理区域里的用过的反应气体通过此通道排出；阻挡部，其设置在所述导电元件的所述通道中，用于部分遮挡连通所述处理区域和所述排气区域的所述通道。本实用新型能够减少半导体基片表面附着的颗粒物的数量，提高颗粒物在半导体基片表面分布均匀性，进而提高刻蚀均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212461598 U
(45)授权公告日 2021.02.02
(21)申请号 202021680952.X
(22)申请日 2020.08.13
(73)专利权人 中微半导体设备（上海）股份有限
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
文档评论（0）