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- 2023-02-16 发布于四川
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本实用新型提供了一种化成箔清洗装置,涉及化成箔清洗设备技术领域。该化成箔清洗装置包括清洗池、底辊、活动板、清洁组件和伸缩组件。清洗池,用于盛装纯水。底辊,用于将化成箔引入清洗池的底部,以便于化成箔的清洗。活动板,活动设置在清洗池内。清洁组件,固设在活动板靠近化成箔的一侧,清洁组件用于摩擦所述的表面。伸缩组件,伸缩组件能作用于活动板的上侧,以上下移动活动板。清洗池和底辊的设置,能将化成箔引入清洗池内的纯水中,便于化成箔的清洗。清洁组件、活动板和伸缩组件的设置,使得化成箔位于纯水中的部位能被上下移动
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212597323 U
(45)授权公告日 2021.02.26
(21)申请号 202021186235.1
(22)申请日 2020.06.24
(73)专利权人 天全君力电子材料有限公司
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